微电子学
微電子學
미전자학
MICROELECTRONICS
2008年
3期
373-376
,共4页
库黎明%闫志瑞%索思卓%常青%周旗钢
庫黎明%閆誌瑞%索思卓%常青%週旂鋼
고려명%염지서%색사탁%상청%주기강
300mm硅片%双面抛光%数学模拟%轨迹%平整度
300mm硅片%雙麵拋光%數學模擬%軌跡%平整度
300mm규편%쌍면포광%수학모의%궤적%평정도
建立了双面抛光过程中硅片表面上的一点相对于抛光布的运动模型;利用数学软件,模拟出不同速度下的运动轨迹.轨迹和实验结果表明,在其他双面抛光工艺不变的情况下,改变抛光机四个部分的转速,对硅片表面的平整度有很大的影响,特别是边缘部分的局部平整度.优化四个转速,可以显著改善300 mm硅片表面的平整度和局部平整度.
建立瞭雙麵拋光過程中硅片錶麵上的一點相對于拋光佈的運動模型;利用數學軟件,模擬齣不同速度下的運動軌跡.軌跡和實驗結果錶明,在其他雙麵拋光工藝不變的情況下,改變拋光機四箇部分的轉速,對硅片錶麵的平整度有很大的影響,特彆是邊緣部分的跼部平整度.優化四箇轉速,可以顯著改善300 mm硅片錶麵的平整度和跼部平整度.
건립료쌍면포광과정중규편표면상적일점상대우포광포적운동모형;이용수학연건,모의출불동속도하적운동궤적.궤적화실험결과표명,재기타쌍면포광공예불변적정황하,개변포광궤사개부분적전속,대규편표면적평정도유흔대적영향,특별시변연부분적국부평정도.우화사개전속,가이현저개선300 mm규편표면적평정도화국부평정도.
