CAJ | 학술논문

采用低压MOCVD方法,在(0001)Al2O3衬底上沉积了ZnO薄膜.研究了Ⅵ族源O2气流量的变化对薄膜结构、表面形貌及光致发光特性的影响.增加O2气流量,ZnO薄膜结晶质量有所降低,半高宽从0.20°展宽至0.30°,由单一c轴取向变成无取向薄膜.同时,生成的柱状晶粒平均尺寸减少,晶粒更加均匀,均方根粗糙度减小.PL谱分析表明:随O2气流量加大,带边峰明显增强,深能级峰明显减弱,ZnO薄膜光学质量提高.这些事实说明:在本实验条件下,采用低压MOCVD方法生长的ZnO薄膜在光致发光特性主要依赖于Zn、O组份配比,而不是薄膜的微观结构质量.
채용저압MOCVD방법,재(0001)Al2O3츤저상침적료ZnO박막.연구료Ⅵ족원O2기류량적변화대박막결구、표면형모급광치발광특성적영향.증가O2기류량,ZnO박막결정질량유소강저,반고관종0.20°전관지0.30°,유단일c축취향변성무취향박막.동시,생성적주상정립평균척촌감소,정립경가균균,균방근조조도감소.PL보분석표명:수O2기류량가대,대변봉명현증강,심능급봉명현감약,ZnO박막광학질량제고.저사사실설명:재본실험조건하,채용저압MOCVD방법생장적ZnO박막재광치발광특성주요의뢰우Zn、O조빈배비,이불시박막적미관결구질량.