发光学报
髮光學報
발광학보
CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE
2006年
5期
787-791
,共5页
王璟璟%李清山%陈达%孔祥贵%张宁%赵波%郑学刚
王璟璟%李清山%陳達%孔祥貴%張寧%趙波%鄭學剛
왕경경%리청산%진체%공상귀%장저%조파%정학강
氧化锌%脉冲激光沉积%化学配比%光致发光%半峰全宽(FWHM)
氧化鋅%脈遲激光沉積%化學配比%光緻髮光%半峰全寬(FWHM)
양화자%맥충격광침적%화학배비%광치발광%반봉전관(FWHM)
采用脉冲激光沉积 (PLD)技术,在Si (100 )衬底上制备出高度c轴取向的ZnO薄膜.通过X射线衍射(XRD)谱,扫描电镜(SEM)和室温光致发光(PL)光谱的测量,研究了生长气氛压强的改变对薄膜结构和光致发光的影响.实验结果表明,当氧压从10 Pa升高到100 Pa时ZnO(002)衍射峰的半峰全宽(FWHM)增大.可以认为这是由于较高的氧压下,到达衬底表面的离子动能减小.这样部分离子没有足够的能量迁移到生长较快的(002)面,c轴取向变差,导致(002)衍射峰的强度降低,半峰全宽增大.随着氧压增大,紫外发光强度增强.这可能是氧压变大,薄膜的化学配比升高,说明化学配比对UV发光的影响要大于薄膜微结构的影响.改变氧气压强对薄膜的表面形貌也有较大的影响.
採用脈遲激光沉積 (PLD)技術,在Si (100 )襯底上製備齣高度c軸取嚮的ZnO薄膜.通過X射線衍射(XRD)譜,掃描電鏡(SEM)和室溫光緻髮光(PL)光譜的測量,研究瞭生長氣氛壓彊的改變對薄膜結構和光緻髮光的影響.實驗結果錶明,噹氧壓從10 Pa升高到100 Pa時ZnO(002)衍射峰的半峰全寬(FWHM)增大.可以認為這是由于較高的氧壓下,到達襯底錶麵的離子動能減小.這樣部分離子沒有足夠的能量遷移到生長較快的(002)麵,c軸取嚮變差,導緻(002)衍射峰的彊度降低,半峰全寬增大.隨著氧壓增大,紫外髮光彊度增彊.這可能是氧壓變大,薄膜的化學配比升高,說明化學配比對UV髮光的影響要大于薄膜微結構的影響.改變氧氣壓彊對薄膜的錶麵形貌也有較大的影響.
채용맥충격광침적 (PLD)기술,재Si (100 )츤저상제비출고도c축취향적ZnO박막.통과X사선연사(XRD)보,소묘전경(SEM)화실온광치발광(PL)광보적측량,연구료생장기분압강적개변대박막결구화광치발광적영향.실험결과표명,당양압종10 Pa승고도100 Pa시ZnO(002)연사봉적반봉전관(FWHM)증대.가이인위저시유우교고적양압하,도체츤저표면적리자동능감소.저양부분리자몰유족구적능량천이도생장교쾌적(002)면,c축취향변차,도치(002)연사봉적강도강저,반봉전관증대.수착양압증대,자외발광강도증강.저가능시양압변대,박막적화학배비승고,설명화학배비대UV발광적영향요대우박막미결구적영향.개변양기압강대박막적표면형모야유교대적영향.
