南京大学学报（自然科学版）
南京大學學報（自然科學版）
남경대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF NANJING UNIVERSITY(NATURAL SCIENCES)
2009年
2期
147-152
,共6页
高介电常数栅介质材料%脉冲激光淀积%薄膜
高介電常數柵介質材料%脈遲激光澱積%薄膜
고개전상수책개질재료%맥충격광정적%박막
采用脉冲激光淀积法在硅衬底上生长了LaErO3薄膜,用X射线衍射仪、X射线电子能谱仪、高分辨透射电子显微镜研究了该薄膜的热学和电学性质.通过电容-电压测量得到了较好的电容-电压曲线,计算得出等效SiO2厚度为1.4 nm.通过高分辨电镜可以看出即使经过700℃30 s N2中快速热退火处理LaErO3薄膜与硅衬底之间的反应层也仅有几个原子层的厚度.X射线电子能谱分析得到非常少量的SiO2在沉积的过程中形成.测量的热学和电学性质表明LaErO3薄膜是高介电常数栅介质材料非常有前途的候选材料.
採用脈遲激光澱積法在硅襯底上生長瞭LaErO3薄膜,用X射線衍射儀、X射線電子能譜儀、高分辨透射電子顯微鏡研究瞭該薄膜的熱學和電學性質.通過電容-電壓測量得到瞭較好的電容-電壓麯線,計算得齣等效SiO2厚度為1.4 nm.通過高分辨電鏡可以看齣即使經過700℃30 s N2中快速熱退火處理LaErO3薄膜與硅襯底之間的反應層也僅有幾箇原子層的厚度.X射線電子能譜分析得到非常少量的SiO2在沉積的過程中形成.測量的熱學和電學性質錶明LaErO3薄膜是高介電常數柵介質材料非常有前途的候選材料.
채용맥충격광정적법재규츤저상생장료LaErO3박막,용X사선연사의、X사선전자능보의、고분변투사전자현미경연구료해박막적열학화전학성질.통과전용-전압측량득도료교호적전용-전압곡선,계산득출등효SiO2후도위1.4 nm.통과고분변전경가이간출즉사경과700℃30 s N2중쾌속열퇴화처리LaErO3박막여규츤저지간적반응층야부유궤개원자층적후도.X사선전자능보분석득도비상소량적SiO2재침적적과정중형성.측량적열학화전학성질표명LaErO3박막시고개전상수책개질재료비상유전도적후선재료.
