光电工程
光電工程
광전공정
OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
2004年
7期
46-49,64
,共5页
谌廷政%吕海宝%漆新民%高益庆%朱小进
諶廷政%呂海寶%漆新民%高益慶%硃小進
심정정%려해보%칠신민%고익경%주소진
灰度掩模%空间光调制器%衍射效率%微光学元件
灰度掩模%空間光調製器%衍射效率%微光學元件
회도엄모%공간광조제기%연사효솔%미광학원건
介绍了制作微光学元件灰度掩模的两种方案,它们分别使用TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)和DMD(数字微镜器件)两种电寻址空间光调制器,采用并行直写和实时掩模技术,提高了灰度掩模制作的速度和灵活性.刷新率的变化和黑栅衍射效应将导致衍射效率下降,使得曝光深度误差增加.前者可延长曝光时间来消除,后者可通过高填充因子和放大滤波电路予以有效抑制.与LCD掩模相比,用DMD掩模制作的闪耀光栅的衍射效率提高了10%以上.
介紹瞭製作微光學元件灰度掩模的兩種方案,它們分彆使用TFT-LCD(薄膜晶體管液晶顯示器)和DMD(數字微鏡器件)兩種電尋阯空間光調製器,採用併行直寫和實時掩模技術,提高瞭灰度掩模製作的速度和靈活性.刷新率的變化和黑柵衍射效應將導緻衍射效率下降,使得曝光深度誤差增加.前者可延長曝光時間來消除,後者可通過高填充因子和放大濾波電路予以有效抑製.與LCD掩模相比,用DMD掩模製作的閃耀光柵的衍射效率提高瞭10%以上.
개소료제작미광학원건회도엄모적량충방안,타문분별사용TFT-LCD(박막정체관액정현시기)화DMD(수자미경기건)량충전심지공간광조제기,채용병행직사화실시엄모기술,제고료회도엄모제작적속도화령활성.쇄신솔적변화화흑책연사효응장도치연사효솔하강,사득폭광심도오차증가.전자가연장폭광시간래소제,후자가통과고전충인자화방대려파전로여이유효억제.여LCD엄모상비,용DMD엄모제작적섬요광책적연사효솔제고료10%이상.
