真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2011年
4期
393-396
,共4页
汪小小%夏齐萍%吕建国%宋学萍%孙兆奇
汪小小%夏齊萍%呂建國%宋學萍%孫兆奇
왕소소%하제평%려건국%송학평%손조기
ZnO薄膜%反应溅射%光致发光%氧氩流量比
ZnO薄膜%反應濺射%光緻髮光%氧氬流量比
ZnO박막%반응천사%광치발광%양아류량비
在室温下,利用射频磁控反应溅射法分别在硅片和石英玻璃上制备ZnO薄膜.通过控制O2/Ar流量比,研究O2/Ar流量比对ZnO薄膜的微结构、表面形貌及其光致发光特性的影响.X射线衍射仪和原子力显微镜结果显示,当O2/Ar流量比为3:4时,所得薄膜结晶度最佳,表面粗糙度为0.725 nm；荧光光谱显示,ZnO薄膜在波长407nm附近出现紫光发光峰,该发光峰源于氧空位浅施主能级到价带顶的电子跃迁,发射强度随O2/Ar流量比的增加先减小后增加.
在室溫下,利用射頻磁控反應濺射法分彆在硅片和石英玻璃上製備ZnO薄膜.通過控製O2/Ar流量比,研究O2/Ar流量比對ZnO薄膜的微結構、錶麵形貌及其光緻髮光特性的影響.X射線衍射儀和原子力顯微鏡結果顯示,噹O2/Ar流量比為3:4時,所得薄膜結晶度最佳,錶麵粗糙度為0.725 nm；熒光光譜顯示,ZnO薄膜在波長407nm附近齣現紫光髮光峰,該髮光峰源于氧空位淺施主能級到價帶頂的電子躍遷,髮射彊度隨O2/Ar流量比的增加先減小後增加.
재실온하,이용사빈자공반응천사법분별재규편화석영파리상제비ZnO박막.통과공제O2/Ar류량비,연구O2/Ar류량비대ZnO박막적미결구、표면형모급기광치발광특성적영향.X사선연사의화원자력현미경결과현시,당O2/Ar류량비위3:4시,소득박막결정도최가,표면조조도위0.725 nm；형광광보현시,ZnO박막재파장407nm부근출현자광발광봉,해발광봉원우양공위천시주능급도개대정적전자약천,발사강도수O2/Ar류량비적증가선감소후증가.
