CAJ | 학술논문

研究了一种新型的覆膜钡钨阴极--双层膜(Os-W/Re膜)钡钨阴极.对这种新型阴极的发射性能进行了测试,重点对其老炼前后表面薄膜的微观形貌进行了分析,表明中间层Re膜的加入使覆膜钡钨阴极的性能得到了改善.通过对Os-W双元合金膜钡钨阴极和Os-W/Re双层膜钡钨阴极发射特性的比较,发现Os-W/Re双层膜阴极的直流发射性能好于Os-W合金膜阴极.对两种阴极激活后发射表面的X射线光电子能谱分析表明,Os-W/Re双层膜阴极激活后表面形成的三元合金膜是其发射特性优于Os-W合金膜阴极的主要原因.应用扫描电子显微镜分析比较两种阴极激活老炼后的表面状态,结果表明:Os-W合金膜阴极在老炼一段时间后,其表面薄膜出现开裂,这会导致阴极发射均匀性下降;而Os-W/Re双层膜阴极在同样老炼条件下,发射表面薄膜均匀并保持完整,从而确保覆膜钡钨阴极发射均匀性和工作可靠性.
연구료일충신형적복막패오음겁--쌍층막(Os-W/Re막)패오음겁.대저충신형음겁적발사성능진행료측시,중점대기노련전후표면박막적미관형모진행료분석,표명중간층Re막적가입사복막패오음겁적성능득도료개선.통과대Os-W쌍원합금막패오음겁화Os-W/Re쌍층막패오음겁발사특성적비교,발현Os-W/Re쌍층막음겁적직류발사성능호우Os-W합금막음겁.대량충음겁격활후발사표면적X사선광전자능보분석표명,Os-W/Re쌍층막음겁격활후표면형성적삼원합금막시기발사특성우우Os-W합금막음겁적주요원인.응용소묘전자현미경분석비교량충음겁격활노련후적표면상태,결과표명:Os-W합금막음겁재노련일단시간후,기표면박막출현개렬,저회도치음겁발사균균성하강;이Os-W/Re쌍층막음겁재동양노련조건하,발사표면박막균균병보지완정,종이학보복막패오음겁발사균균성화공작가고성.