红外与激光工程
紅外與激光工程
홍외여격광공정
INFRARED AND LASER ENGINEERING
2009年
3期
433-436
,共4页
潘永强%吴振森%杭凌侠%穆亚勇
潘永彊%吳振森%杭凌俠%穆亞勇
반영강%오진삼%항릉협%목아용
界面粗糙度%白光干涉轮廓仪%均方根粗糙度%光散射
界麵粗糙度%白光榦涉輪廓儀%均方根粗糙度%光散射
계면조조도%백광간섭륜곽의%균방근조조도%광산사
利用泰勒霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪(Talysurf CCI)分别对基底和采用电子束热蒸发技术沉积的15层二氧,化钛(TiO2)和二氧化硅(SiO2)为膜料的介质高反膜的膜层间的界面粗糙度进行了研究,并对不同工艺下沉积的薄膜界面粗糙度以及不同基底粗糙度上沉积的薄膜的表面粗糙度进行了比较.实验结果表明:TiO2薄膜对基底或下表面粗糙度有较好的平滑作用,随着TiO2和SiO2膜层的交替镀制,膜层间表面粗糙度呈现出低高交替的现象,随着膜层层数的增加,膜层间界面粗糙度低高变化范围减小;采用离子束辅助沉积工艺时,膜层问界面粗糙度低高变化范围较小.总散射损耗的理论计算表明:中心波长处完全非相关模型下的总散射损耗小于完全相关模型下的总散射损耗.实验结果表明:界面粗糙度的相关度约为0.4.
利用泰勒霍普森相關相榦錶麵輪廓粗糙度儀(Talysurf CCI)分彆對基底和採用電子束熱蒸髮技術沉積的15層二氧,化鈦(TiO2)和二氧化硅(SiO2)為膜料的介質高反膜的膜層間的界麵粗糙度進行瞭研究,併對不同工藝下沉積的薄膜界麵粗糙度以及不同基底粗糙度上沉積的薄膜的錶麵粗糙度進行瞭比較.實驗結果錶明:TiO2薄膜對基底或下錶麵粗糙度有較好的平滑作用,隨著TiO2和SiO2膜層的交替鍍製,膜層間錶麵粗糙度呈現齣低高交替的現象,隨著膜層層數的增加,膜層間界麵粗糙度低高變化範圍減小;採用離子束輔助沉積工藝時,膜層問界麵粗糙度低高變化範圍較小.總散射損耗的理論計算錶明:中心波長處完全非相關模型下的總散射損耗小于完全相關模型下的總散射損耗.實驗結果錶明:界麵粗糙度的相關度約為0.4.
이용태륵곽보삼상관상간표면륜곽조조도의(Talysurf CCI)분별대기저화채용전자속열증발기술침적적15층이양,화태(TiO2)화이양화규(SiO2)위막료적개질고반막적막층간적계면조조도진행료연구,병대불동공예하침적적박막계면조조도이급불동기저조조도상침적적박막적표면조조도진행료비교.실험결과표명:TiO2박막대기저혹하표면조조도유교호적평활작용,수착TiO2화SiO2막층적교체도제,막층간표면조조도정현출저고교체적현상,수착막층층수적증가,막층간계면조조도저고변화범위감소;채용리자속보조침적공예시,막층문계면조조도저고변화범위교소.총산사손모적이론계산표명:중심파장처완전비상관모형하적총산사손모소우완전상관모형하적총산사손모.실험결과표명:계면조조도적상관도약위0.4.
