真空
真空
진공
VACUUM
2011年
4期
46-50
,共5页
桂刚%田修波%朱宗涛%吴忠振%巩春志%杨士勤
桂剛%田脩波%硃宗濤%吳忠振%鞏春誌%楊士勤
계강%전수파%주종도%오충진%공춘지%양사근
HPPMS%1000A电源研制%逆变%并联均流%电压过冲
HPPMS%1000A電源研製%逆變%併聯均流%電壓過遲
HPPMS%1000A전원연제%역변%병련균류%전압과충
高功率脉冲磁控溅射( HPPMS)以其在真空镀膜上更大的优势而越来越受到重视,高压大电流电源是实现HPPMS的关键因素.本文研制了1000 A高功率脉冲磁控溅射电源,给出了电源框架图和主电路拓扑结构图.对脉冲部分采用仿真分析探索大模块IGBT的不均流因素,结果表明驱动一致性是影响均流的关键原因之一；分析了大电流时1GBT两端电压过冲问题,采用RCD吸收和续流回路能有效抑制电压过冲,使电压过冲在正常安全范围内.用所研制的电源进行等离子体负载实验,运行良好,为性能优异薄膜的制备奠定硬件基础.
高功率脈遲磁控濺射( HPPMS)以其在真空鍍膜上更大的優勢而越來越受到重視,高壓大電流電源是實現HPPMS的關鍵因素.本文研製瞭1000 A高功率脈遲磁控濺射電源,給齣瞭電源框架圖和主電路拓撲結構圖.對脈遲部分採用倣真分析探索大模塊IGBT的不均流因素,結果錶明驅動一緻性是影響均流的關鍵原因之一；分析瞭大電流時1GBT兩耑電壓過遲問題,採用RCD吸收和續流迴路能有效抑製電壓過遲,使電壓過遲在正常安全範圍內.用所研製的電源進行等離子體負載實驗,運行良好,為性能優異薄膜的製備奠定硬件基礎.
고공솔맥충자공천사( HPPMS)이기재진공도막상경대적우세이월래월수도중시,고압대전류전원시실현HPPMS적관건인소.본문연제료1000 A고공솔맥충자공천사전원,급출료전원광가도화주전로탁복결구도.대맥충부분채용방진분석탐색대모괴IGBT적불균류인소,결과표명구동일치성시영향균류적관건원인지일；분석료대전류시1GBT량단전압과충문제,채용RCD흡수화속류회로능유효억제전압과충,사전압과충재정상안전범위내.용소연제적전원진행등리자체부재실험,운행량호,위성능우이박막적제비전정경건기출.
