稀有金属
稀有金屬
희유금속
CHINESE JOURNAL OF RARE METALS
2003年
5期
561-564
,共4页
段静芳%许小红%武海顺%李佐宜
段靜芳%許小紅%武海順%李佐宜
단정방%허소홍%무해순%리좌의
铬底层%晶面取向%溅射参数%SmCo/Cr薄膜%矫顽力
鉻底層%晶麵取嚮%濺射參數%SmCo/Cr薄膜%矯頑力
락저층%정면취향%천사삼수%SmCo/Cr박막%교완력
采用直流磁控溅射法制备SmCo/Cr薄膜磁记录材料, 通过改变Cr底层制备过程中的功率、靶基距、溅射压强和溅射时间, 得到了磁性能不同的SmCo/Cr薄膜. 利用X射线衍射法对Cr底层晶面取向和磁控溅射参数之间的关系进行了研究, 结果表明: 如果改变溅射参数, 使沉积Cr原子获得较大的能量, 则有利于Cr底层最终以(110)晶面择优取向. 本实验中Cr底层以(110)晶面择优取向的最佳实验条件为: 溅射功率在50～70 W左右, 靶基距为6 cm, 压强为0.5 Pa, 溅射时间为15 min. 利用振动样品磁强计(VSM)测定SmCo/Cr薄膜的磁学性能, 结果表明, 如果Cr底层能以(110)晶面择优取向, 所得到的SmCo/Cr薄膜的磁学性能较好.
採用直流磁控濺射法製備SmCo/Cr薄膜磁記錄材料, 通過改變Cr底層製備過程中的功率、靶基距、濺射壓彊和濺射時間, 得到瞭磁性能不同的SmCo/Cr薄膜. 利用X射線衍射法對Cr底層晶麵取嚮和磁控濺射參數之間的關繫進行瞭研究, 結果錶明: 如果改變濺射參數, 使沉積Cr原子穫得較大的能量, 則有利于Cr底層最終以(110)晶麵擇優取嚮. 本實驗中Cr底層以(110)晶麵擇優取嚮的最佳實驗條件為: 濺射功率在50～70 W左右, 靶基距為6 cm, 壓彊為0.5 Pa, 濺射時間為15 min. 利用振動樣品磁彊計(VSM)測定SmCo/Cr薄膜的磁學性能, 結果錶明, 如果Cr底層能以(110)晶麵擇優取嚮, 所得到的SmCo/Cr薄膜的磁學性能較好.
채용직류자공천사법제비SmCo/Cr박막자기록재료, 통과개변Cr저층제비과정중적공솔、파기거、천사압강화천사시간, 득도료자성능불동적SmCo/Cr박막. 이용X사선연사법대Cr저층정면취향화자공천사삼수지간적관계진행료연구, 결과표명: 여과개변천사삼수, 사침적Cr원자획득교대적능량, 칙유리우Cr저층최종이(110)정면택우취향. 본실험중Cr저층이(110)정면택우취향적최가실험조건위: 천사공솔재50～70 W좌우, 파기거위6 cm, 압강위0.5 Pa, 천사시간위15 min. 이용진동양품자강계(VSM)측정SmCo/Cr박막적자학성능, 결과표명, 여과Cr저층능이(110)정면택우취향, 소득도적SmCo/Cr박막적자학성능교호.
