功能材料
功能材料
공능재료
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
2010年
9期
1615-1617,1622
,共4页
贾迎飞%马书懿%陈海霞%陶亚明%侯丽莉%孟军霞%尚小荣
賈迎飛%馬書懿%陳海霞%陶亞明%侯麗莉%孟軍霞%尚小榮
가영비%마서의%진해하%도아명%후려리%맹군하%상소영
ZnO薄膜%缓冲层%磁控溅射%光致发光
ZnO薄膜%緩遲層%磁控濺射%光緻髮光
ZnO박막%완충층%자공천사%광치발광
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了具有高c轴择优取向的不同Zn缓冲层厚度的ZnO(ZnO/Zn)薄膜.利用X射线衍射(XRD)法、扫描电子显微镜(SEM)技术和光致荧光(PL)发光谱(PL)等表征了ZnO/Zn薄膜的微观结构和发光特性.XRD的分析结果显示,随着缓冲层厚度的增加,(002)衍射峰的半高宽(FWHM)逐渐变小,表明薄膜的结晶质量得到改善.通过对样品 PL 谱的研究,发现分别位于435(2.85eV)和480nm(2.55eV)的蓝光双峰以及530nm(2.34eV)的绿光峰,且缓冲层沉积时间为10min时,样品的单色性最好.推测位于435nm的蓝光发射主要来源于电子从锌填隙缺陷能级到价带顶的跃迁所致,而绿光峰的发光机制与氧空位有关.
採用射頻磁控濺射法在玻璃襯底上製備瞭具有高c軸擇優取嚮的不同Zn緩遲層厚度的ZnO(ZnO/Zn)薄膜.利用X射線衍射(XRD)法、掃描電子顯微鏡(SEM)技術和光緻熒光(PL)髮光譜(PL)等錶徵瞭ZnO/Zn薄膜的微觀結構和髮光特性.XRD的分析結果顯示,隨著緩遲層厚度的增加,(002)衍射峰的半高寬(FWHM)逐漸變小,錶明薄膜的結晶質量得到改善.通過對樣品 PL 譜的研究,髮現分彆位于435(2.85eV)和480nm(2.55eV)的藍光雙峰以及530nm(2.34eV)的綠光峰,且緩遲層沉積時間為10min時,樣品的單色性最好.推測位于435nm的藍光髮射主要來源于電子從鋅填隙缺陷能級到價帶頂的躍遷所緻,而綠光峰的髮光機製與氧空位有關.
채용사빈자공천사법재파리츤저상제비료구유고c축택우취향적불동Zn완충층후도적ZnO(ZnO/Zn)박막.이용X사선연사(XRD)법、소묘전자현미경(SEM)기술화광치형광(PL)발광보(PL)등표정료ZnO/Zn박막적미관결구화발광특성.XRD적분석결과현시,수착완충층후도적증가,(002)연사봉적반고관(FWHM)축점변소,표명박막적결정질량득도개선.통과대양품 PL 보적연구,발현분별위우435(2.85eV)화480nm(2.55eV)적람광쌍봉이급530nm(2.34eV)적록광봉,차완충층침적시간위10min시,양품적단색성최호.추측위우435nm적람광발사주요래원우전자종자전극결함능급도개대정적약천소치,이록광봉적발광궤제여양공위유관.
