电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
2008年
5期
375-378
,共4页
邻近效应校正%电子束光刻
鄰近效應校正%電子束光刻
린근효응교정%전자속광각
本文利用双高斯形式的邻近函数来表达电子束在抗蚀剂中能量的分布,并以邻近函数为基础计算一些简单图形在曝光时所需的尺寸改变量.通过与实验的比较来说明该方法的可靠性,并对所得结果进行讨论和分析.
本文利用雙高斯形式的鄰近函數來錶達電子束在抗蝕劑中能量的分佈,併以鄰近函數為基礎計算一些簡單圖形在曝光時所需的呎吋改變量.通過與實驗的比較來說明該方法的可靠性,併對所得結果進行討論和分析.
본문이용쌍고사형식적린근함수래표체전자속재항식제중능량적분포,병이린근함수위기출계산일사간단도형재폭광시소수적척촌개변량.통과여실험적비교래설명해방법적가고성,병대소득결과진행토론화분석.
