光谱实验室
光譜實驗室
광보실험실
CHINESE JOURNAL OF SPECTROSCOPY LABORATORY
2007年
5期
967-971
,共5页
王俊伟%田燕妮%周保娟%杨斌盛
王俊偉%田燕妮%週保娟%楊斌盛
왕준위%전연니%주보연%양빈성
N%N'-乙烯-二[2-(2-羟基苯基)甘氨酸]%Ga3+%荧光光谱%紫外差光谱
N%N'-乙烯-二[2-(2-羥基苯基)甘氨痠]%Ga3+%熒光光譜%紫外差光譜
N%N'-을희-이[2-(2-간기분기)감안산]%Ga3+%형광광보%자외차광보
在0.1mol/L pH 7.2,Tris-HCl缓冲溶液和室温条件下,用荧光光谱和紫外差光谱研究了Ga3+与N,N'-乙烯-二[2-(2-羟基苯基)甘氨酸](EHPG)的配合反应.结果表明:Ga3+与EHPG的配位比为1/1.随着Ga3+的不断滴加,EHPG的荧光光谱在310nm处的最大荧光峰强度逐渐降低,其紫外差光谱在240nm和293nm处的吸收峰逐渐增强.当Ga3+达到一定量时,310nm处的荧光强度、紫外光谱中240nm和293nm处的吸收峰强度不再发生变化.通过计算可得:在240nm处配合物Ga-EHPG的摩尔吸光系数为ε=5.41×103 L·mol-1·cm-1,条件稳定常数为lgKGa-EHPG=22.83.
在0.1mol/L pH 7.2,Tris-HCl緩遲溶液和室溫條件下,用熒光光譜和紫外差光譜研究瞭Ga3+與N,N'-乙烯-二[2-(2-羥基苯基)甘氨痠](EHPG)的配閤反應.結果錶明:Ga3+與EHPG的配位比為1/1.隨著Ga3+的不斷滴加,EHPG的熒光光譜在310nm處的最大熒光峰彊度逐漸降低,其紫外差光譜在240nm和293nm處的吸收峰逐漸增彊.噹Ga3+達到一定量時,310nm處的熒光彊度、紫外光譜中240nm和293nm處的吸收峰彊度不再髮生變化.通過計算可得:在240nm處配閤物Ga-EHPG的摩爾吸光繫數為ε=5.41×103 L·mol-1·cm-1,條件穩定常數為lgKGa-EHPG=22.83.
재0.1mol/L pH 7.2,Tris-HCl완충용액화실온조건하,용형광광보화자외차광보연구료Ga3+여N,N'-을희-이[2-(2-간기분기)감안산](EHPG)적배합반응.결과표명:Ga3+여EHPG적배위비위1/1.수착Ga3+적불단적가,EHPG적형광광보재310nm처적최대형광봉강도축점강저,기자외차광보재240nm화293nm처적흡수봉축점증강.당Ga3+체도일정량시,310nm처적형광강도、자외광보중240nm화293nm처적흡수봉강도불재발생변화.통과계산가득:재240nm처배합물Ga-EHPG적마이흡광계수위ε=5.41×103 L·mol-1·cm-1,조건은정상수위lgKGa-EHPG=22.83.
