金属学报
金屬學報
금속학보
ACTA METALLURGICA SINICA
2006年
2期
172-176
,共5页
郭岩%畅庚榕%吴贵智%马胜利%徐可为
郭巖%暢庚榕%吳貴智%馬勝利%徐可為
곽암%창경용%오귀지%마성리%서가위
Ti-Si-C N%纳米复合超硬薄膜%晶粒尺寸%显微硬度%热稳定性
Ti-Si-C N%納米複閤超硬薄膜%晶粒呎吋%顯微硬度%熱穩定性
Ti-Si-C N%납미복합초경박막%정립척촌%현미경도%열은정성
用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)方法在高速钢基体上沉积出新型Ti-Si-C-N超硬薄膜.Ti-Si-C-N薄膜为纳米晶/非晶复合结构(nc-Ti(C,N)/a-Si3N4/a-C-C),当薄膜中Si和C含量较高时,Ti(C,N)转变为TiC,晶粒尺寸减小到2-4 nm.薄膜晶粒尺寸和硬度的高温热稳定性均随沉积态薄膜中的原始晶粒尺寸减小而提高,当原始晶粒尺寸在8-10 nm之间时,晶粒尺寸和硬度热稳定性可达900℃;当原始晶粒尺寸在2-4 nm之间时,晶粒尺寸和硬度热稳定性可达1000℃薄膜硬度和晶粒尺寸表现出同步的高温热稳定性.分析认为由调幅分解形成的纳米复合结构中的非晶相强烈地抑制晶界滑移与晶粒长大,从而使Ti-Si-C-N薄膜的热稳定性显著提高.
用脈遲直流等離子體輔助化學氣相沉積(PCVD)方法在高速鋼基體上沉積齣新型Ti-Si-C-N超硬薄膜.Ti-Si-C-N薄膜為納米晶/非晶複閤結構(nc-Ti(C,N)/a-Si3N4/a-C-C),噹薄膜中Si和C含量較高時,Ti(C,N)轉變為TiC,晶粒呎吋減小到2-4 nm.薄膜晶粒呎吋和硬度的高溫熱穩定性均隨沉積態薄膜中的原始晶粒呎吋減小而提高,噹原始晶粒呎吋在8-10 nm之間時,晶粒呎吋和硬度熱穩定性可達900℃;噹原始晶粒呎吋在2-4 nm之間時,晶粒呎吋和硬度熱穩定性可達1000℃薄膜硬度和晶粒呎吋錶現齣同步的高溫熱穩定性.分析認為由調幅分解形成的納米複閤結構中的非晶相彊烈地抑製晶界滑移與晶粒長大,從而使Ti-Si-C-N薄膜的熱穩定性顯著提高.
용맥충직류등리자체보조화학기상침적(PCVD)방법재고속강기체상침적출신형Ti-Si-C-N초경박막.Ti-Si-C-N박막위납미정/비정복합결구(nc-Ti(C,N)/a-Si3N4/a-C-C),당박막중Si화C함량교고시,Ti(C,N)전변위TiC,정립척촌감소도2-4 nm.박막정립척촌화경도적고온열은정성균수침적태박막중적원시정립척촌감소이제고,당원시정립척촌재8-10 nm지간시,정립척촌화경도열은정성가체900℃;당원시정립척촌재2-4 nm지간시,정립척촌화경도열은정성가체1000℃박막경도화정립척촌표현출동보적고온열은정성.분석인위유조폭분해형성적납미복합결구중적비정상강렬지억제정계활이여정립장대,종이사Ti-Si-C-N박막적열은정성현저제고.