半导体技术
半導體技術
반도체기술
SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY
2003年
4期
30-32,41
,共4页
崔增文%何山虎%陈弘达%毛陆虹%高建玉
崔增文%何山虎%陳弘達%毛陸虹%高建玉
최증문%하산호%진홍체%모륙홍%고건옥
CMOS工艺%特征频率fT%单片系统SoC%短距离并行光传输系统VSR%多项目晶圆MPW
CMOS工藝%特徵頻率fT%單片繫統SoC%短距離併行光傳輸繫統VSR%多項目晶圓MPW
CMOS공예%특정빈솔fT%단편계통SoC%단거리병행광전수계통VSR%다항목정원MPW
从速度、集成度、功耗和成本等几个方面深入的分析了利用标准CMOS工艺来设计开发高速模拟器件和混合处理芯片的现状及发展潜力.
從速度、集成度、功耗和成本等幾箇方麵深入的分析瞭利用標準CMOS工藝來設計開髮高速模擬器件和混閤處理芯片的現狀及髮展潛力.
종속도、집성도、공모화성본등궤개방면심입적분석료이용표준CMOS공예래설계개발고속모의기건화혼합처리심편적현상급발전잠력.