河北工业大学学报
河北工業大學學報
하북공업대학학보
JOURNAL OF HEBEI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
2000年
4期
73-75
,共3页
NTDFZSi片%高温扩散%电阻率下降%冷却速率%低温退火
NTDFZSi片%高溫擴散%電阻率下降%冷卻速率%低溫退火
NTDFZSi편%고온확산%전조솔하강%냉각속솔%저온퇴화
实验结果表明NTDFZSi片电阻率下降的幅度与硅片冷却速率有关.在由1200 ℃冷却到室温的过程中,冷却速度越快,硅片电阻率下降的幅度越大.另外,样品的厚度也是一个重要因素.实验指出,当样品厚度在1200 ℃以上时,硅片电阻率变化很小.特别值得指出的是,那些经高温退火电阻率下降的硅片再经650～680 ℃低温退火,可使硅片的电阻率得到回复.
實驗結果錶明NTDFZSi片電阻率下降的幅度與硅片冷卻速率有關.在由1200 ℃冷卻到室溫的過程中,冷卻速度越快,硅片電阻率下降的幅度越大.另外,樣品的厚度也是一箇重要因素.實驗指齣,噹樣品厚度在1200 ℃以上時,硅片電阻率變化很小.特彆值得指齣的是,那些經高溫退火電阻率下降的硅片再經650～680 ℃低溫退火,可使硅片的電阻率得到迴複.
실험결과표명NTDFZSi편전조솔하강적폭도여규편냉각속솔유관.재유1200 ℃냉각도실온적과정중,냉각속도월쾌,규편전조솔하강적폭도월대.령외,양품적후도야시일개중요인소.실험지출,당양품후도재1200 ℃이상시,규편전조솔변화흔소.특별치득지출적시,나사경고온퇴화전조솔하강적규편재경650～680 ℃저온퇴화,가사규편적전조솔득도회복.
