稀有金属
稀有金屬
희유금속
CHINESE JOURNAL OF RARE METALS
2003年
1期
28-34
,共7页
潘伦桃%李彬%郑爱国%吕建波%李海军%王秋迎
潘倫桃%李彬%鄭愛國%呂建波%李海軍%王鞦迎
반륜도%리빈%정애국%려건파%리해군%왕추영
钽%阻挡层%钽溅射靶%化学气相沉积
鐽%阻擋層%鐽濺射靶%化學氣相沉積
단%조당층%단천사파%화학기상침적
介绍了在硅基片上用钽溅射靶溅射沉积和用钽的化合物气相化学沉积钽基膜(金属钽、碳化钽、氮化钽、硅化钽、氮化硅化钽、氮化碳化钽)作为集成电路中防止铜向基片硅中扩散的阻挡层, 介绍了钽溅射靶的技术要求, 加工方法以及化学气相沉积钽基薄膜的方法.
介紹瞭在硅基片上用鐽濺射靶濺射沉積和用鐽的化閤物氣相化學沉積鐽基膜(金屬鐽、碳化鐽、氮化鐽、硅化鐽、氮化硅化鐽、氮化碳化鐽)作為集成電路中防止銅嚮基片硅中擴散的阻擋層, 介紹瞭鐽濺射靶的技術要求, 加工方法以及化學氣相沉積鐽基薄膜的方法.
개소료재규기편상용단천사파천사침적화용단적화합물기상화학침적단기막(금속단、탄화단、담화단、규화단、담화규화단、담화탄화단)작위집성전로중방지동향기편규중확산적조당층, 개소료단천사파적기술요구, 가공방법이급화학기상침적단기박막적방법.
