半导体技术
半導體技術
반도체기술
SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY
2005年
11期
35-38
,共4页
易万兵%涂瑞能%张炳一%吴谨%毛杜立%邹世昌
易萬兵%塗瑞能%張炳一%吳謹%毛杜立%鄒世昌
역만병%도서능%장병일%오근%모두립%추세창
化学气相淀积%集成电路制造%后段工艺
化學氣相澱積%集成電路製造%後段工藝
화학기상정적%집성전로제조%후단공예
介绍了CVD技术的原理和分类.对不同种类的CVD薄膜进行了比较和分析,并主要讨论了CVD绝缘介质薄膜在后段工艺中的应用.
介紹瞭CVD技術的原理和分類.對不同種類的CVD薄膜進行瞭比較和分析,併主要討論瞭CVD絕緣介質薄膜在後段工藝中的應用.
개소료CVD기술적원리화분류.대불동충류적CVD박막진행료비교화분석,병주요토론료CVD절연개질박막재후단공예중적응용.
