电子器件
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전자기건
JOURNAL OF ELECTRON DEVICES
2011年
4期
402-405
,共4页
非金属表面化学镀铜%等离子体%表面处理%附着力%洁净度
非金屬錶麵化學鍍銅%等離子體%錶麵處理%附著力%潔淨度
비금속표면화학도동%등리자체%표면처리%부착력%길정도
由于常规的化学镀铜层存在易剥落、不均匀、清洁度差等问题,所以提出在化学镀铜工艺之前增加等离子体处理工 序.通过改变等离子体功率、处理时间和处理距离等参数,使ITO表面获得较好的化学镀铜层.实验结果表明,处理距离越 短对减小水接触角、提高清洁度和附着力越有利；而等离子体功率和处理时间对基板表面状态的影响不是单调的.因此通过 选择合适的等离子体功率、处理时间和处理距离,可以获得附着力好、清洁度高的化学镀铜层.
由于常規的化學鍍銅層存在易剝落、不均勻、清潔度差等問題,所以提齣在化學鍍銅工藝之前增加等離子體處理工 序.通過改變等離子體功率、處理時間和處理距離等參數,使ITO錶麵穫得較好的化學鍍銅層.實驗結果錶明,處理距離越 短對減小水接觸角、提高清潔度和附著力越有利；而等離子體功率和處理時間對基闆錶麵狀態的影響不是單調的.因此通過 選擇閤適的等離子體功率、處理時間和處理距離,可以穫得附著力好、清潔度高的化學鍍銅層.
유우상규적화학도동층존재역박락、불균균、청길도차등문제,소이제출재화학도동공예지전증가등리자체처리공 서.통과개변등리자체공솔、처리시간화처리거리등삼수,사ITO표면획득교호적화학도동층.실험결과표명,처리거리월 단대감소수접촉각、제고청길도화부착력월유리；이등리자체공솔화처리시간대기판표면상태적영향불시단조적.인차통과 선택합괄적등리자체공솔、처리시간화처리거리,가이획득부착력호、청길도고적화학도동층.
