感光科学与光化学
感光科學與光化學
감광과학여광화학
PHOTOGRAPHIC SCIENCE AND PHOTOCHEMISTRY
2003年
5期
346-356
,共11页
化学增幅%KrF激光%深紫外光刻%248 nm光刻胶%主体树脂%酸催化%光致产酸剂
化學增幅%KrF激光%深紫外光刻%248 nm光刻膠%主體樹脂%痠催化%光緻產痠劑
화학증폭%KrF격광%심자외광각%248 nm광각효%주체수지%산최화%광치산산제
本文从化学增幅技术的产生,深紫外248 nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248 nm胶的发展与进步.
本文從化學增幅技術的產生,深紫外248 nm膠主體樹脂及PAG髮展歷程、溶解抑製劑、存在的工藝問題及解決途徑多箇方麵綜述瞭深紫外248 nm膠的髮展與進步.
본문종화학증폭기술적산생,심자외248 nm효주체수지급PAG발전역정、용해억제제、존재적공예문제급해결도경다개방면종술료심자외248 nm효적발전여진보.
