中国表面工程
中國錶麵工程
중국표면공정
CHINA SURFACE ENGINEERING
2009年
5期
31-35
,共5页
龙航宇%余志明%陈爽%魏秋平%刘学璋
龍航宇%餘誌明%陳爽%魏鞦平%劉學璋
룡항우%여지명%진상%위추평%류학장
磁控溅射%掺钨%VO2
磁控濺射%摻鎢%VO2
자공천사%참오%VO2
采用复合靶磁控溅射法在SiO2玻璃、普通玻璃和Si(100)上沉积氧化钒薄膜,然后对其进行真空退火.分别利用X射线衍射、原子力显微镜、紫外可见光分光光度计和红外光谱仪分析样品的物相、表面形貌和光透过率.结果表明:500 ℃下退火1 h,SiO2玻璃衬底上沉积40 min的薄膜主要物相为VO2和V2O5,退火时间延长到2 h,薄膜主要物相为VO2,薄膜晶粒尺寸均匀,晶粒大小约为100 nm;Si (100)上沉积40 min的薄膜在500 ℃下退火2 h后,物相为低于+4价的钒氧化物;掺钨后薄膜可见光和红外光的透过率都有提高.
採用複閤靶磁控濺射法在SiO2玻璃、普通玻璃和Si(100)上沉積氧化釩薄膜,然後對其進行真空退火.分彆利用X射線衍射、原子力顯微鏡、紫外可見光分光光度計和紅外光譜儀分析樣品的物相、錶麵形貌和光透過率.結果錶明:500 ℃下退火1 h,SiO2玻璃襯底上沉積40 min的薄膜主要物相為VO2和V2O5,退火時間延長到2 h,薄膜主要物相為VO2,薄膜晶粒呎吋均勻,晶粒大小約為100 nm;Si (100)上沉積40 min的薄膜在500 ℃下退火2 h後,物相為低于+4價的釩氧化物;摻鎢後薄膜可見光和紅外光的透過率都有提高.
채용복합파자공천사법재SiO2파리、보통파리화Si(100)상침적양화범박막,연후대기진행진공퇴화.분별이용X사선연사、원자력현미경、자외가견광분광광도계화홍외광보의분석양품적물상、표면형모화광투과솔.결과표명:500 ℃하퇴화1 h,SiO2파리츤저상침적40 min적박막주요물상위VO2화V2O5,퇴화시간연장도2 h,박막주요물상위VO2,박막정립척촌균균,정립대소약위100 nm;Si (100)상침적40 min적박막재500 ℃하퇴화2 h후,물상위저우+4개적범양화물;참오후박막가견광화홍외광적투과솔도유제고.
