电子元件与材料
電子元件與材料
전자원건여재료
ELECTRONIC COMPONENTS & MATERIALS
2011年
10期
68-71
,共4页
Ni纳米线阵列%电化学模板法%阳极氧化铝膜
Ni納米線陣列%電化學模闆法%暘極氧化鋁膜
Ni납미선진렬%전화학모판법%양겁양화려막
采用两种简化的电化学模板(自制的多孔阳极氧化铝膜直接作为模板和铜箔复合的商品AAO模板)法制备了长度在微米级,直径为50和200 nm的Ni纳米线阵列.XRD及扫描电子显微镜(SEM)分析表明制备出的Ni纳米线具有面心立方结构且排列规则.上述两种简化的模板法工艺也可用于制备其他金属、合金等的有序纳米线阵列.
採用兩種簡化的電化學模闆(自製的多孔暘極氧化鋁膜直接作為模闆和銅箔複閤的商品AAO模闆)法製備瞭長度在微米級,直徑為50和200 nm的Ni納米線陣列.XRD及掃描電子顯微鏡(SEM)分析錶明製備齣的Ni納米線具有麵心立方結構且排列規則.上述兩種簡化的模闆法工藝也可用于製備其他金屬、閤金等的有序納米線陣列.
채용량충간화적전화학모판(자제적다공양겁양화려막직접작위모판화동박복합적상품AAO모판)법제비료장도재미미급,직경위50화200 nm적Ni납미선진렬.XRD급소묘전자현미경(SEM)분석표명제비출적Ni납미선구유면심립방결구차배렬규칙.상술량충간화적모판법공예야가용우제비기타금속、합금등적유서납미선진렬.
