电子束缩小投影曝光系统的掩模研究
전자속축소투영폭광계통적엄모연구
Study on Mask for Projection Electron- beam Lithography System
  • 万方数据
    微细加工技术 미세가공기술
    MICROFABRICATION TECHNOLOGY
    2002年 3期 12-16,22 ,共6页

    吴桂君%彭开武%张福安%顾文琪%陈大鹏%杨清华%刘明%叶甜春

    오계군%팽개무%장복안%고문기%진대붕%양청화%류명%협첨춘

    掩模%电子束投影曝光%透射率%反差 掩模%電子束投影曝光%透射率%反差
    엄모%전자속투영폭광%투사솔%반차
    介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备、性能和使用情况.
    개소료용우전자속투영폭광계통중박막가산사체엄모적제비、성능화사용정황.
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