功能材料
功能材料
공능재료
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
2007年
3期
351-353
,共3页
吴家刚%朱基亮%肖定全%朱建国%谭浚哲%张青磊
吳傢剛%硃基亮%肖定全%硃建國%譚浚哲%張青磊
오가강%주기량%초정전%주건국%담준철%장청뢰
(Pb090La010)Ti0975O3(PLT)%铁电薄膜%射频磁控溅射%LaNiO3%剩余极化
(Pb090La010)Ti0975O3(PLT)%鐵電薄膜%射頻磁控濺射%LaNiO3%剩餘極化
(Pb090La010)Ti0975O3(PLT)%철전박막%사빈자공천사%LaNiO3%잉여겁화
采用射频磁控溅射技术,以LaNiO3(LNO)作为过渡层,在SiO2/Si(100)、Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)衬底上分别获得了(100)、(110)取向的(Pb0.90La0.10)Ti0.975O3(PLT)铁电薄膜.研究了LNO/Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)和LNO/SiO2/Si(100)基底对PLT薄膜微结构和铁电性能的影响.实验结果表明,与在LNO/Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基底上沉积的(110)取向的PLT薄膜相比较,在LNO/SiO2/Si(100)基底上沉积的高度(100)取向的PLT薄膜具有更好的微结构和更高的剩余极化强度,其2Pr为40.4μC/cm2.
採用射頻磁控濺射技術,以LaNiO3(LNO)作為過渡層,在SiO2/Si(100)、Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)襯底上分彆穫得瞭(100)、(110)取嚮的(Pb0.90La0.10)Ti0.975O3(PLT)鐵電薄膜.研究瞭LNO/Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)和LNO/SiO2/Si(100)基底對PLT薄膜微結構和鐵電性能的影響.實驗結果錶明,與在LNO/Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基底上沉積的(110)取嚮的PLT薄膜相比較,在LNO/SiO2/Si(100)基底上沉積的高度(100)取嚮的PLT薄膜具有更好的微結構和更高的剩餘極化彊度,其2Pr為40.4μC/cm2.
채용사빈자공천사기술,이LaNiO3(LNO)작위과도층,재SiO2/Si(100)、Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)츤저상분별획득료(100)、(110)취향적(Pb0.90La0.10)Ti0.975O3(PLT)철전박막.연구료LNO/Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)화LNO/SiO2/Si(100)기저대PLT박막미결구화철전성능적영향.실험결과표명,여재LNO/Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)기저상침적적(110)취향적PLT박막상비교,재LNO/SiO2/Si(100)기저상침적적고도(100)취향적PLT박막구유경호적미결구화경고적잉여겁화강도,기2Pr위40.4μC/cm2.
