华东冶金学院学报
華東冶金學院學報
화동야금학원학보
JOURNAL OF EAST CHINA UNIVERSITY OF METALLURGY
2000年
2期
130-133,151
,共5页
姚文锐%郭德济%韩志义%赵锡祥
姚文銳%郭德濟%韓誌義%趙錫祥
요문예%곽덕제%한지의%조석상
电化学振荡%H2O2%Sn(Ⅱ)/Sn(Ⅳ)
電化學振盪%H2O2%Sn(Ⅱ)/Sn(Ⅳ)
전화학진탕%H2O2%Sn(Ⅱ)/Sn(Ⅳ)
选择H2O2浓度为0.38～1.18mol/L,考察各种因素对Pt电极上H2O2在控电流条件下电势振荡行为的影响,在此基础上,构造了一个新的电化学振荡器即H2O2-NaOH-Sn(Ⅱ)/Sn(Ⅳ)电化学振荡体系,进一步得到该电化学振荡体系的一些规律.
選擇H2O2濃度為0.38～1.18mol/L,攷察各種因素對Pt電極上H2O2在控電流條件下電勢振盪行為的影響,在此基礎上,構造瞭一箇新的電化學振盪器即H2O2-NaOH-Sn(Ⅱ)/Sn(Ⅳ)電化學振盪體繫,進一步得到該電化學振盪體繫的一些規律.
선택H2O2농도위0.38～1.18mol/L,고찰각충인소대Pt전겁상H2O2재공전류조건하전세진탕행위적영향,재차기출상,구조료일개신적전화학진탕기즉H2O2-NaOH-Sn(Ⅱ)/Sn(Ⅳ)전화학진탕체계,진일보득도해전화학진탕체계적일사규률.
