真空
真空
진공
VACUUM
2005年
4期
9-11
,共3页
蔡长龙%刁东风%三宅正司%松本武
蔡長龍%刁東風%三宅正司%鬆本武
채장룡%조동풍%삼택정사%송본무
MCECR等离子体溅射%硬碳膜%摩擦系数%纳米硬度
MCECR等離子體濺射%硬碳膜%摩抆繫數%納米硬度
MCECR등리자체천사%경탄막%마찰계수%납미경도
采用封闭式电子回旋共振(MCECR)等离子体溅射的方法在硅(100)基片上沉积了高质量的硬碳纳米微晶薄膜,膜层厚度约40 nm,采用氩等离子体溅射碳靶.薄膜的键结构采用X射线光电子能谱仪(XPS)分析,纳米结构采用高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)分析.本文研究了基片偏压对薄膜的纳米结构、摩擦特性(摩擦系数及磨损率)以及薄膜的纳米硬度的影响.摩擦特性采用POD摩擦磨损仪测试,纳米硬度采用纳米压入仪测试.
採用封閉式電子迴鏇共振(MCECR)等離子體濺射的方法在硅(100)基片上沉積瞭高質量的硬碳納米微晶薄膜,膜層厚度約40 nm,採用氬等離子體濺射碳靶.薄膜的鍵結構採用X射線光電子能譜儀(XPS)分析,納米結構採用高分辨率透射電子顯微鏡(HRTEM)分析.本文研究瞭基片偏壓對薄膜的納米結構、摩抆特性(摩抆繫數及磨損率)以及薄膜的納米硬度的影響.摩抆特性採用POD摩抆磨損儀測試,納米硬度採用納米壓入儀測試.
채용봉폐식전자회선공진(MCECR)등리자체천사적방법재규(100)기편상침적료고질량적경탄납미미정박막,막층후도약40 nm,채용아등리자체천사탄파.박막적건결구채용X사선광전자능보의(XPS)분석,납미결구채용고분변솔투사전자현미경(HRTEM)분석.본문연구료기편편압대박막적납미결구、마찰특성(마찰계수급마손솔)이급박막적납미경도적영향.마찰특성채용POD마찰마손의측시,납미경도채용납미압입의측시.
