稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2008年
z1期
326-329
,共4页
凌惠琴%丁冬雁%周晓强%李明%毛大立
凌惠琴%丁鼕雁%週曉彊%李明%毛大立
릉혜금%정동안%주효강%리명%모대립
TiO2/Al2O3%堆栈结构%high-k%界面层
TiO2/Al2O3%堆棧結構%high-k%界麵層
TiO2/Al2O3%퇴잔결구%high-k%계면층
采用磁控溅射法制备了TiO2/Al2O3堆栈结构高k栅介质薄膜,研究了不同后处理条件对等效氧化物厚度,界面电荷和界面扩散的影响.实验结果表明:400℃退火后,TiO2已经结晶,退火可以降低漏电流密度和介电层中的电荷密度.同时,退火使Ti进一步向Al2O3层扩散,形成TiO2和A12为O3的混合层,Al2O3层过薄时不能有效阻挡TiO2的扩散.
採用磁控濺射法製備瞭TiO2/Al2O3堆棧結構高k柵介質薄膜,研究瞭不同後處理條件對等效氧化物厚度,界麵電荷和界麵擴散的影響.實驗結果錶明:400℃退火後,TiO2已經結晶,退火可以降低漏電流密度和介電層中的電荷密度.同時,退火使Ti進一步嚮Al2O3層擴散,形成TiO2和A12為O3的混閤層,Al2O3層過薄時不能有效阻擋TiO2的擴散.
채용자공천사법제비료TiO2/Al2O3퇴잔결구고k책개질박막,연구료불동후처리조건대등효양화물후도,계면전하화계면확산적영향.실험결과표명:400℃퇴화후,TiO2이경결정,퇴화가이강저루전류밀도화개전층중적전하밀도.동시,퇴화사Ti진일보향Al2O3층확산,형성TiO2화A12위O3적혼합층,Al2O3층과박시불능유효조당TiO2적확산.