材料保护
材料保護
재료보호
MATERIALS PROTECTION
2007年
2期
11-13
,共3页
周建新%徐宏%刘京雷%戚学贵
週建新%徐宏%劉京雷%慼學貴
주건신%서굉%류경뢰%척학귀
常压化学气相沉积(APCVD)%SiO2/S复合涂层%HP40合金
常壓化學氣相沉積(APCVD)%SiO2/S複閤塗層%HP40閤金
상압화학기상침적(APCVD)%SiO2/S복합도층%HP40합금
以二甲基二硫(DMDS)和正硅酸乙酯(TEOS)为反应物,采用常压化学气相沉积法在HP40合金基体上成功制备了SiO2/S复合涂层.采用扫描电子显微镜(SEM)及其附带能谱仪(EDAX)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、Raman光谱等技术对涂层的形貌、元素成分、结构进行了表征,并对反应机理做了初步探讨.结果表明,SiO2/S复合涂层为无定形结构,主要由Si-O四面体的变形结构组成,S以S4及+4价状态与Si-O四面体的变形结构结合,涂层完整、致密.
以二甲基二硫(DMDS)和正硅痠乙酯(TEOS)為反應物,採用常壓化學氣相沉積法在HP40閤金基體上成功製備瞭SiO2/S複閤塗層.採用掃描電子顯微鏡(SEM)及其附帶能譜儀(EDAX)、原子力顯微鏡(AFM)、X射線衍射(XRD)、Raman光譜等技術對塗層的形貌、元素成分、結構進行瞭錶徵,併對反應機理做瞭初步探討.結果錶明,SiO2/S複閤塗層為無定形結構,主要由Si-O四麵體的變形結構組成,S以S4及+4價狀態與Si-O四麵體的變形結構結閤,塗層完整、緻密.
이이갑기이류(DMDS)화정규산을지(TEOS)위반응물,채용상압화학기상침적법재HP40합금기체상성공제비료SiO2/S복합도층.채용소묘전자현미경(SEM)급기부대능보의(EDAX)、원자력현미경(AFM)、X사선연사(XRD)、Raman광보등기술대도층적형모、원소성분、결구진행료표정,병대반응궤리주료초보탐토.결과표명,SiO2/S복합도층위무정형결구,주요유Si-O사면체적변형결구조성,S이S4급+4개상태여Si-O사면체적변형결구결합,도층완정、치밀.
