稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2004年
7期
775-777
,共3页
祝要民%李晓园%宋晓平%陈强
祝要民%李曉園%宋曉平%陳彊
축요민%리효완%송효평%진강
磁性薄膜%磁控溅射%化学成分%磁性能
磁性薄膜%磁控濺射%化學成分%磁性能
자성박막%자공천사%화학성분%자성능
用轮番溅射工艺在多靶磁控溅射设备上制备了SmCo薄膜.通过改变Sm,Co纯金属靶的溅射时间间隔和溅射功率来调整薄膜的化学成分和均匀性.实验表明,可以通过调整溅射电流来优化薄膜的化学成分.沿垂直膜面俄歇电子(AES)逐层分析证明,优化溅射工艺制备的薄膜化学成分分布均匀.电子衍射表明薄膜溅射态为非晶结构,经过400℃退火处理,薄膜开始晶化.VSM分析表明溅射态的薄膜为软磁特征.晶化后的薄膜表现为硬磁特征,450℃退火时薄膜的矫顽力最大,达80 320A/m.薄膜呈现一定的各向异性.
用輪番濺射工藝在多靶磁控濺射設備上製備瞭SmCo薄膜.通過改變Sm,Co純金屬靶的濺射時間間隔和濺射功率來調整薄膜的化學成分和均勻性.實驗錶明,可以通過調整濺射電流來優化薄膜的化學成分.沿垂直膜麵俄歇電子(AES)逐層分析證明,優化濺射工藝製備的薄膜化學成分分佈均勻.電子衍射錶明薄膜濺射態為非晶結構,經過400℃退火處理,薄膜開始晶化.VSM分析錶明濺射態的薄膜為軟磁特徵.晶化後的薄膜錶現為硬磁特徵,450℃退火時薄膜的矯頑力最大,達80 320A/m.薄膜呈現一定的各嚮異性.
용륜번천사공예재다파자공천사설비상제비료SmCo박막.통과개변Sm,Co순금속파적천사시간간격화천사공솔래조정박막적화학성분화균균성.실험표명,가이통과조정천사전류래우화박막적화학성분.연수직막면아헐전자(AES)축층분석증명,우화천사공예제비적박막화학성분분포균균.전자연사표명박막천사태위비정결구,경과400℃퇴화처리,박막개시정화.VSM분석표명천사태적박막위연자특정.정화후적박막표현위경자특정,450℃퇴화시박막적교완력최대,체80 320A/m.박막정현일정적각향이성.
