原子能科学技术
原子能科學技術
원자능과학기술
ATOMIC ENERGY SCIENCE AND TECHNOLOGY
2005年
1期
44-48
,共5页
王庆富%叶宏%张鹏程%郎定木%王晓红%王嘉勇
王慶富%葉宏%張鵬程%郎定木%王曉紅%王嘉勇
왕경부%협굉%장붕정%랑정목%왕효홍%왕가용
贫铀%脉冲电镀%镍镀层%腐蚀
貧鈾%脈遲電鍍%鎳鍍層%腐蝕
빈유%맥충전도%얼도층%부식
利用扫描电镜、X射线能谱仪及电化学测试技术对贫铀表面脉冲电镀镍层的腐蚀机理进行了研究.结果表明:在含50μg/g Cl-的KCl溶液中,首先,在铀表面镍镀层的孔隙处发生腐蚀并逐渐扩展到铀/镍界面;腐蚀产物在界面的积累导致镍镀层开裂;镍对铀是一种阴极性镀层,铀镍接触发生电偶腐蚀,镍对铀的保护作用基于镍镀层对腐蚀介质的物理屏障,提高镀层的致密性可改善镍镀层对铀基体的抗腐蚀能力.
利用掃描電鏡、X射線能譜儀及電化學測試技術對貧鈾錶麵脈遲電鍍鎳層的腐蝕機理進行瞭研究.結果錶明:在含50μg/g Cl-的KCl溶液中,首先,在鈾錶麵鎳鍍層的孔隙處髮生腐蝕併逐漸擴展到鈾/鎳界麵;腐蝕產物在界麵的積纍導緻鎳鍍層開裂;鎳對鈾是一種陰極性鍍層,鈾鎳接觸髮生電偶腐蝕,鎳對鈾的保護作用基于鎳鍍層對腐蝕介質的物理屏障,提高鍍層的緻密性可改善鎳鍍層對鈾基體的抗腐蝕能力.
이용소묘전경、X사선능보의급전화학측시기술대빈유표면맥충전도얼층적부식궤리진행료연구.결과표명:재함50μg/g Cl-적KCl용액중,수선,재유표면얼도층적공극처발생부식병축점확전도유/얼계면;부식산물재계면적적루도치얼도층개렬;얼대유시일충음겁성도층,유얼접촉발생전우부식,얼대유적보호작용기우얼도층대부식개질적물리병장,제고도층적치밀성가개선얼도층대유기체적항부식능력.
