CAJ | 학술논문

采用XRD、SEM分析测试方法研究在600～1200℃和1800℃真空热处理2h条件下SiC/Mo界面反应层微观结构,并对SiC/Mo界面反应前后Mo金属的力学性能进行比较.研究表明:在800和1000℃热处理后,Mo与SiC分解的C在表面反应生成Mo2C;在1200℃热处理后Mo表面出现了Mo2C和Mo3Si相,以亚微米颗粒状反应层结构存在;当1800℃热处理后出现了Mo5Si3、Mo5Si3C以及扩散未分解的SiC.采用EDS方法在SiC/Mo界面反应层的断口处确定出Si 扩散深度大于C.在600～1200℃热处理后,SiC/Mo界面反应对Mo金属的维氏硬度和延伸率均增大,而拉伸强度改变较小.
채용XRD、SEM분석측시방법연구재600～1200℃화1800℃진공열처리2h조건하SiC/Mo계면반응층미관결구,병대SiC/Mo계면반응전후Mo금속적역학성능진행비교.연구표명:재800화1000℃열처리후,Mo여SiC분해적C재표면반응생성Mo2C;재1200℃열처리후Mo표면출현료Mo2C화Mo3Si상,이아미미과립상반응층결구존재;당1800℃열처리후출현료Mo5Si3、Mo5Si3C이급확산미분해적SiC.채용EDS방법재SiC/Mo계면반응층적단구처학정출Si 확산심도대우C.재600～1200℃열처리후,SiC/Mo계면반응대Mo금속적유씨경도화연신솔균증대,이랍신강도개변교소.