金属材料与冶金工程
金屬材料與冶金工程
금속재료여야금공정
METAL MATERIALS AND METALLURGY ENGINEERING
2009年
6期
10-13
,共4页
钠%高压%第一性原理%电子结构%光学性质
鈉%高壓%第一性原理%電子結構%光學性質
납%고압%제일성원리%전자결구%광학성질
利用基于密度泛函理论(DFT)的广义梯度近似(GGA)研究了320GPa高压下钠的电子结构和光学性质,给出了其沿布里渊区高对称轴的能带结构、态密度(DOS)和分态密度(PDOS).并计算了介电函数ε(w),反射率R(w),能量损失函数L(w),光吸收系数I(w),光导率σ(w),折射率n(w),以及消光系数k(w),用以讨论高压下钠的光学性质.
利用基于密度汎函理論(DFT)的廣義梯度近似(GGA)研究瞭320GPa高壓下鈉的電子結構和光學性質,給齣瞭其沿佈裏淵區高對稱軸的能帶結構、態密度(DOS)和分態密度(PDOS).併計算瞭介電函數ε(w),反射率R(w),能量損失函數L(w),光吸收繫數I(w),光導率σ(w),摺射率n(w),以及消光繫數k(w),用以討論高壓下鈉的光學性質.
이용기우밀도범함이론(DFT)적엄의제도근사(GGA)연구료320GPa고압하납적전자결구화광학성질,급출료기연포리연구고대칭축적능대결구、태밀도(DOS)화분태밀도(PDOS).병계산료개전함수ε(w),반사솔R(w),능량손실함수L(w),광흡수계수I(w),광도솔σ(w),절사솔n(w),이급소광계수k(w),용이토론고압하납적광학성질.
