强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2009年
10期
1476-1480
,共5页
刘光辉%方明%晋云霞%张伟丽%贺洪波%范正修
劉光輝%方明%晉雲霞%張偉麗%賀洪波%範正脩
류광휘%방명%진운하%장위려%하홍파%범정수
替代层%高反膜%应力%激光损伤阈值%抛光
替代層%高反膜%應力%激光損傷閾值%拋光
체대층%고반막%응력%격광손상역치%포광
将Sc2O3替代层引入到532 nm高反膜(HfO2/SiO2)n中,利用Sc2O3在盐酸中具有较好的溶解性这个特点,把膜层与基片脱离,以方便基片返修,缩短返修周期,降低成本.能量色散谱元素测试表明,脱离后Sc元素残留率为0.用Lamada900分光光度计、WykoNT1100轮廓仪和ZYGO干涉仪分别表征了替代层引入对高反膜的光谱、表面粗糙度和应力的影响,并测试了膜系在532 nm的激光损伤阈值的变化,结果表明Sc2O3替代层的引入对高反膜的性能几乎没有负面影响.
將Sc2O3替代層引入到532 nm高反膜(HfO2/SiO2)n中,利用Sc2O3在鹽痠中具有較好的溶解性這箇特點,把膜層與基片脫離,以方便基片返脩,縮短返脩週期,降低成本.能量色散譜元素測試錶明,脫離後Sc元素殘留率為0.用Lamada900分光光度計、WykoNT1100輪廓儀和ZYGO榦涉儀分彆錶徵瞭替代層引入對高反膜的光譜、錶麵粗糙度和應力的影響,併測試瞭膜繫在532 nm的激光損傷閾值的變化,結果錶明Sc2O3替代層的引入對高反膜的性能幾乎沒有負麵影響.
장Sc2O3체대층인입도532 nm고반막(HfO2/SiO2)n중,이용Sc2O3재염산중구유교호적용해성저개특점,파막층여기편탈리,이방편기편반수,축단반수주기,강저성본.능량색산보원소측시표명,탈리후Sc원소잔류솔위0.용Lamada900분광광도계、WykoNT1100륜곽의화ZYGO간섭의분별표정료체대층인입대고반막적광보、표면조조도화응력적영향,병측시료막계재532 nm적격광손상역치적변화,결과표명Sc2O3체대층적인입대고반막적성능궤호몰유부면영향.
