稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2006年
1期
142-145
,共4页
赵青南%倪佳苗%张乃芝%赵修建%姜宏%王桂荣
趙青南%倪佳苗%張迺芝%趙脩建%薑宏%王桂榮
조청남%예가묘%장내지%조수건%강굉%왕계영
射频溅射%玻璃基TiOx-CeO2薄膜%紫外光截止镀膜玻璃%基片温度
射頻濺射%玻璃基TiOx-CeO2薄膜%紫外光截止鍍膜玻璃%基片溫度
사빈천사%파리기TiOx-CeO2박막%자외광절지도막파리%기편온도
制备了摩尔比为l:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材.采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5:95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜.溅射过程中,工作气压保持在1.8 Pa不变,玻璃基片温度从室温(RT)～220℃之间变化.用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的物相结构、表面组成、表面形貌和镀膜试样的紫外-可见光透过率.结果表明,薄膜表面结构平滑、致密,呈微小晶粒结构,薄膜中Ti和Ce仅以Ti4+和Ce4+的形式存在;随着基片温度升高,薄膜中的细小晶粒略有长大;TiO2-CeO2镀膜玻璃可以有效地截止紫外线.
製備瞭摩爾比為l:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材.採用射頻磁控濺射法在O2和Ar比例為5:95的混閤氣體中製備瞭玻璃基TiO2-CeO2薄膜.濺射過程中,工作氣壓保持在1.8 Pa不變,玻璃基片溫度從室溫(RT)～220℃之間變化.用X射線衍射(XRD)、X射線光電子能譜(XPS)、掃描電鏡(SEM)、透射電鏡(TEM)和紫外-可見光譜儀研究瞭薄膜的物相結構、錶麵組成、錶麵形貌和鍍膜試樣的紫外-可見光透過率.結果錶明,薄膜錶麵結構平滑、緻密,呈微小晶粒結構,薄膜中Ti和Ce僅以Ti4+和Ce4+的形式存在;隨著基片溫度升高,薄膜中的細小晶粒略有長大;TiO2-CeO2鍍膜玻璃可以有效地截止紫外線.
제비료마이비위l:1적TiO2화CeO2도자파재.채용사빈자공천사법재O2화Ar비례위5:95적혼합기체중제비료파리기TiO2-CeO2박막.천사과정중,공작기압보지재1.8 Pa불변,파리기편온도종실온(RT)～220℃지간변화.용X사선연사(XRD)、X사선광전자능보(XPS)、소묘전경(SEM)、투사전경(TEM)화자외-가견광보의연구료박막적물상결구、표면조성、표면형모화도막시양적자외-가견광투과솔.결과표명,박막표면결구평활、치밀,정미소정립결구,박막중Ti화Ce부이Ti4+화Ce4+적형식존재;수착기편온도승고,박막중적세소정립략유장대;TiO2-CeO2도막파리가이유효지절지자외선.
