材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2012年
10期
16-18,22
,共4页
马紫微%苏玉荣%谢毅柱%赵海廷%刘利新%李健%谢二庆
馬紫微%囌玉榮%謝毅柱%趙海廷%劉利新%李健%謝二慶
마자미%소옥영%사의주%조해정%류리신%리건%사이경
HfO2薄膜%溅射法%光学性能%光学带隙
HfO2薄膜%濺射法%光學性能%光學帶隙
HfO2박막%천사법%광학성능%광학대극
HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系.薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响.所有的薄膜均为单斜相,晶粒尺寸在纳米量级.薄膜的折射率在1.92～2.08范围内变化,透过率大于85％.结果表明,这些HfO2薄膜很适宜用作增透膜或者高反膜.此外,通过Tauc公式推出光学带隙在5.150～5.433eV范围内变化,表明样品是良好的绝缘体.
HfO2薄膜的結構和光學性能與反應濺射時使用的氣壓有很彊的依賴關繫.薄膜的晶粒生長取嚮、生長速率和摺射率明顯受濺射氣壓的影響.所有的薄膜均為單斜相,晶粒呎吋在納米量級.薄膜的摺射率在1.92～2.08範圍內變化,透過率大于85％.結果錶明,這些HfO2薄膜很適宜用作增透膜或者高反膜.此外,通過Tauc公式推齣光學帶隙在5.150～5.433eV範圍內變化,錶明樣品是良好的絕緣體.
HfO2박막적결구화광학성능여반응천사시사용적기압유흔강적의뢰관계.박막적정립생장취향、생장속솔화절사솔명현수천사기압적영향.소유적박막균위단사상,정립척촌재납미량급.박막적절사솔재1.92～2.08범위내변화,투과솔대우85％.결과표명,저사HfO2박막흔괄의용작증투막혹자고반막.차외,통과Tauc공식추출광학대극재5.150～5.433eV범위내변화,표명양품시량호적절연체.
