退火温度对sol-gel制备的ZnO薄膜的结构影响
퇴화온도대sol-gel제비적ZnO박막적결구영향
Influence of heat-treatment temperature on ZnO thin film prepared by sol-gel method
  • 万方数据
    功能材料与器件学报 공능재료여기건학보
    JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
    2005年 3期 370-372 ,共3页

    谷坤明%汤皎宁%李均钦%杨钦鹏%李翠华%YANG Qin-peng%LI Cui-Hua

    곡곤명%탕교저%리균흠%양흠붕%리취화%YANG Qin-peng%LI Cui-Hua

    ZnO薄膜%溶胶-凝胶法%热处理 ZnO薄膜%溶膠-凝膠法%熱處理
    ZnO박막%용효-응효법%열처리
    采用sol-gel旋涂法在抛光硅<111>晶面生长了高度C轴取向的ZnO薄膜.DSC以及XRD测试结果显示此溶胶系统的最佳退火温度为450℃左右,更高的退火温度将对薄膜的择优取向产生不利的影响.SEM显示薄膜表面致密、均匀、光滑,组成薄膜的颗粒尺寸在50～100nm,并显示出良好的C轴择优取向.
    채용sol-gel선도법재포광규<111>정면생장료고도C축취향적ZnO박막.DSC이급XRD측시결과현시차용효계통적최가퇴화온도위450℃좌우,경고적퇴화온도장대박막적택우취향산생불리적영향.SEM현시박막표면치밀、균균、광활,조성박막적과립척촌재50～100nm,병현시출량호적C축택우취향.
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