功能材料与器件学报
功能材料與器件學報
공능재료여기건학보
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
2003年
1期
75-78
,共4页
章宁琳%宋志棠%沈勤我%林成鲁
章寧琳%宋誌棠%瀋勤我%林成魯
장저림%송지당%침근아%림성로
高K栅介质%非晶%ZrO2薄膜%表面粗糙度
高K柵介質%非晶%ZrO2薄膜%錶麵粗糙度
고K책개질%비정%ZrO2박막%표면조조도
采用超高真空电子束蒸发法制备了新型高 K栅介质-非晶 ZrO2薄膜. X射线光电子能谱 (XPS) 中 Zr3d5/2 和 Zr3d3/2 对应的结合能分别为 182.1eV和 184.3eV, Zr元素的主要存在形式为 Zr4+,说明薄膜由完全氧化的 ZrO2组成 ,并且纵向分布均一.扩展电阻法( SRP)显示 ZrO2薄膜的 电阻率在 108Ω@ cm以上,通过高分辨率透射电镜( HR- XTEM)可以观察 ZrO2/Si界面陡直,没有 界面反应产物 ,证明 600℃快速退火后 ZrO2薄膜是非晶结构.原子力显微镜( AFM)表征了薄膜的 表面粗糙度,所有样品表面都很平整,其中 600℃快速退火样品 (RTA)的 RMS为 0.480nm.
採用超高真空電子束蒸髮法製備瞭新型高 K柵介質-非晶 ZrO2薄膜. X射線光電子能譜 (XPS) 中 Zr3d5/2 和 Zr3d3/2 對應的結閤能分彆為 182.1eV和 184.3eV, Zr元素的主要存在形式為 Zr4+,說明薄膜由完全氧化的 ZrO2組成 ,併且縱嚮分佈均一.擴展電阻法( SRP)顯示 ZrO2薄膜的 電阻率在 108Ω@ cm以上,通過高分辨率透射電鏡( HR- XTEM)可以觀察 ZrO2/Si界麵陡直,沒有 界麵反應產物 ,證明 600℃快速退火後 ZrO2薄膜是非晶結構.原子力顯微鏡( AFM)錶徵瞭薄膜的 錶麵粗糙度,所有樣品錶麵都很平整,其中 600℃快速退火樣品 (RTA)的 RMS為 0.480nm.
채용초고진공전자속증발법제비료신형고 K책개질-비정 ZrO2박막. X사선광전자능보 (XPS) 중 Zr3d5/2 화 Zr3d3/2 대응적결합능분별위 182.1eV화 184.3eV, Zr원소적주요존재형식위 Zr4+,설명박막유완전양화적 ZrO2조성 ,병차종향분포균일.확전전조법( SRP)현시 ZrO2박막적 전조솔재 108Ω@ cm이상,통과고분변솔투사전경( HR- XTEM)가이관찰 ZrO2/Si계면두직,몰유 계면반응산물 ,증명 600℃쾌속퇴화후 ZrO2박막시비정결구.원자력현미경( AFM)표정료박막적 표면조조도,소유양품표면도흔평정,기중 600℃쾌속퇴화양품 (RTA)적 RMS위 0.480nm.
