无机材料学报
無機材料學報
무궤재료학보
JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS
2002年
4期
887-890
,共4页
氧化铝薄膜%等离子体源%磁控溅射沉积%折射率
氧化鋁薄膜%等離子體源%磁控濺射沉積%摺射率
양화려박막%등리자체원%자공천사침적%절사솔
采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600°C沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2Os体材料相当.
採用電子迴鏇共振微波等離子體源增彊磁控濺射沉積氧化鋁薄膜.X射線光電子譜和X射線衍射分析錶明,在600°C沉積溫度下,Si(100)基片上穫得瞭亞穩的具有化學計量配比成分、麵心立方結構的γ-Al2O3薄膜.薄膜的摺射率為1.7,與穩定的α-Al2Os體材料相噹.
채용전자회선공진미파등리자체원증강자공천사침적양화려박막.X사선광전자보화X사선연사분석표명,재600°C침적온도하,Si(100)기편상획득료아은적구유화학계량배비성분、면심립방결구적γ-Al2O3박막.박막적절사솔위1.7,여은정적α-Al2Os체재료상당.
