无机材料学报
無機材料學報
무궤재료학보
JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS
2009年
2期
345-348
,共4页
娄载亮%李群艳%王志宏%韦奇%聂祚仁
婁載亮%李群豔%王誌宏%韋奇%聶祚仁
루재량%리군염%왕지굉%위기%섭조인
氢氧化镍%二氧化硅%核壳%空心微球
氫氧化鎳%二氧化硅%覈殼%空心微毬
경양화얼%이양화규%핵각%공심미구
采用以正硅酸乙酯(TEOS)水解为基础的硅溶胶种子生长法制备了粒径约为270nm的近单分散二氧化硅球型颗粒.采用一种新的溶液生长法,以氢氟酸作为溶液中镍离子配位剂,加入氨水调节溶液pH值的同时作为镍离子补充配位剂,60℃水浴条件下在已制得SiO2微球表面均匀包覆α-Ni(OH)2得到Ni(OH)2/SiO2核壳结构,Ni(OH)2壳层厚度约为35nm.结合多步包覆法提高Ni(OH)2壳层厚度,三次包覆后壳层厚度达到约100nm,四次包覆后约为140nm.采用20wt%的强碱NaOH溶液对三次包覆后的Ni(OH)2/SiO2核壳结构进行处理,得到了壳层厚度约为95nm的α-Ni(OH)2空心微球.空心微球具有较大的比表面积为141.06m2/g.
採用以正硅痠乙酯(TEOS)水解為基礎的硅溶膠種子生長法製備瞭粒徑約為270nm的近單分散二氧化硅毬型顆粒.採用一種新的溶液生長法,以氫氟痠作為溶液中鎳離子配位劑,加入氨水調節溶液pH值的同時作為鎳離子補充配位劑,60℃水浴條件下在已製得SiO2微毬錶麵均勻包覆α-Ni(OH)2得到Ni(OH)2/SiO2覈殼結構,Ni(OH)2殼層厚度約為35nm.結閤多步包覆法提高Ni(OH)2殼層厚度,三次包覆後殼層厚度達到約100nm,四次包覆後約為140nm.採用20wt%的彊堿NaOH溶液對三次包覆後的Ni(OH)2/SiO2覈殼結構進行處理,得到瞭殼層厚度約為95nm的α-Ni(OH)2空心微毬.空心微毬具有較大的比錶麵積為141.06m2/g.
채용이정규산을지(TEOS)수해위기출적규용효충자생장법제비료립경약위270nm적근단분산이양화규구형과립.채용일충신적용액생장법,이경불산작위용액중얼리자배위제,가입안수조절용액pH치적동시작위얼리자보충배위제,60℃수욕조건하재이제득SiO2미구표면균균포복α-Ni(OH)2득도Ni(OH)2/SiO2핵각결구,Ni(OH)2각층후도약위35nm.결합다보포복법제고Ni(OH)2각층후도,삼차포복후각층후도체도약100nm,사차포복후약위140nm.채용20wt%적강감NaOH용액대삼차포복후적Ni(OH)2/SiO2핵각결구진행처리,득도료각층후도약위95nm적α-Ni(OH)2공심미구.공심미구구유교대적비표면적위141.06m2/g.
