微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2005年
5期
244-248
,共5页
高压扫描电子束曝光机%纳米图形%透射电子显微镜
高壓掃描電子束曝光機%納米圖形%透射電子顯微鏡
고압소묘전자속폭광궤%납미도형%투사전자현미경
通过简单添加一些附件,将一台带有扫描附件的商用透射电子显微镜改造为一台高压扫描电子束曝光机,以研究高压下高分辨率、高深宽比抗蚀剂图形曝光及邻近效应的影响.重点介绍了如何获得一个高分辨率的电子光学系统,并利用此系统初步进行了曝光实验,在120 nm厚的PMMA胶上获得了53 nm线宽的抗蚀剂图形,表明此装置可用于纳米图形的制作.
通過簡單添加一些附件,將一檯帶有掃描附件的商用透射電子顯微鏡改造為一檯高壓掃描電子束曝光機,以研究高壓下高分辨率、高深寬比抗蝕劑圖形曝光及鄰近效應的影響.重點介紹瞭如何穫得一箇高分辨率的電子光學繫統,併利用此繫統初步進行瞭曝光實驗,在120 nm厚的PMMA膠上穫得瞭53 nm線寬的抗蝕劑圖形,錶明此裝置可用于納米圖形的製作.
통과간단첨가일사부건,장일태대유소묘부건적상용투사전자현미경개조위일태고압소묘전자속폭광궤,이연구고압하고분변솔、고심관비항식제도형폭광급린근효응적영향.중점개소료여하획득일개고분변솔적전자광학계통,병이용차계통초보진행료폭광실험,재120 nm후적PMMA효상획득료53 nm선관적항식제도형,표명차장치가용우납미도형적제작.
