半导体光电
半導體光電
반도체광전
SEMICONDUCTOR OPTOELECTRONICS
2007年
1期
87-89,138
,共4页
蔡颖岚%张勇%杜合杰%李仁豪
蔡穎嵐%張勇%杜閤傑%李仁豪
채영람%장용%두합걸%리인호
光刻机%自动对准%基准标记
光刻機%自動對準%基準標記
광각궤%자동대준%기준표기
介绍了投影光刻机的分步重复自动对准光刻系统,分析了其工作原理;从对准标记的设计、工艺与对准的关系两方面进行了论述,阐述了采用这类自动对准系统的光刻机可能遇到的工艺问题,并提出了相应的解决措施.
介紹瞭投影光刻機的分步重複自動對準光刻繫統,分析瞭其工作原理;從對準標記的設計、工藝與對準的關繫兩方麵進行瞭論述,闡述瞭採用這類自動對準繫統的光刻機可能遇到的工藝問題,併提齣瞭相應的解決措施.
개소료투영광각궤적분보중복자동대준광각계통,분석료기공작원리;종대준표기적설계、공예여대준적관계량방면진행료논술,천술료채용저류자동대준계통적광각궤가능우도적공예문제,병제출료상응적해결조시.
