微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2010年
2期
65-70,79
,共7页
王磊%惠瑜%高超群%景玉鹏
王磊%惠瑜%高超群%景玉鵬
왕뢰%혜유%고초군%경옥붕
RCA清洗%硅片清洗%无损伤清洗%超临界二氧化碳%超临界流体%干燥
RCA清洗%硅片清洗%無損傷清洗%超臨界二氧化碳%超臨界流體%榦燥
RCA청세%규편청세%무손상청세%초림계이양화탄%초림계류체%간조
简要回顾了传统RCA清洗工艺的历史背景和清洗原理,介绍了RCA清洗随着工艺节点减小存在的局限性.在此基础上,阐述了以超临界二氧化碳(SCCO2)为媒质的新型清洗工艺,该工艺流程可以同时实现超临界流体清洗和干燥.结合自主研发的绿色环保二氧化碳超临界半导体清洗设备,论述了利用SCCO2对Si片进行无损伤清洗的工艺原理和工艺流程.分析了近年来国内外对SCCO2清洗的研究进展,展示了其在清洗方面的巨大潜力以及在微电子行业应用中的有效性和优越性,其研究成果有利于推动下一代清洗工艺的发展.
簡要迴顧瞭傳統RCA清洗工藝的歷史揹景和清洗原理,介紹瞭RCA清洗隨著工藝節點減小存在的跼限性.在此基礎上,闡述瞭以超臨界二氧化碳(SCCO2)為媒質的新型清洗工藝,該工藝流程可以同時實現超臨界流體清洗和榦燥.結閤自主研髮的綠色環保二氧化碳超臨界半導體清洗設備,論述瞭利用SCCO2對Si片進行無損傷清洗的工藝原理和工藝流程.分析瞭近年來國內外對SCCO2清洗的研究進展,展示瞭其在清洗方麵的巨大潛力以及在微電子行業應用中的有效性和優越性,其研究成果有利于推動下一代清洗工藝的髮展.
간요회고료전통RCA청세공예적역사배경화청세원리,개소료RCA청세수착공예절점감소존재적국한성.재차기출상,천술료이초림계이양화탄(SCCO2)위매질적신형청세공예,해공예류정가이동시실현초림계류체청세화간조.결합자주연발적록색배보이양화탄초림계반도체청세설비,논술료이용SCCO2대Si편진행무손상청세적공예원리화공예류정.분석료근년래국내외대SCCO2청세적연구진전,전시료기재청세방면적거대잠력이급재미전자행업응용중적유효성화우월성,기연구성과유리우추동하일대청세공예적발전.