实验技术与管理
實驗技術與管理
실험기술여관리
EXPERIMENTAL TECHNOLOGY AND MANAGEMENT
2012年
4期
204-206,213
,共4页
亚纳米级抛光%平整度%超光滑表面%超洁净
亞納米級拋光%平整度%超光滑錶麵%超潔淨
아납미급포광%평정도%초광활표면%초길정
亚纳米级抛光是获得超光滑表面的主要方法.目前,常用的亚纳米级抛光方法有化学机械抛光(CMP)、电化学机械抛光(ECMP)、无磨料化学机械抛光(AP-CMP)、磁流变抛光(MRP)等.亚纳米级抛光质量受抛光液、抛光条件和抛光环境等诸多方面的影响.抛光实验室的抛光环境是超光滑表面的重要影响因素之一,必须对抛光环境的各个方面加以科学管理和维护.
亞納米級拋光是穫得超光滑錶麵的主要方法.目前,常用的亞納米級拋光方法有化學機械拋光(CMP)、電化學機械拋光(ECMP)、無磨料化學機械拋光(AP-CMP)、磁流變拋光(MRP)等.亞納米級拋光質量受拋光液、拋光條件和拋光環境等諸多方麵的影響.拋光實驗室的拋光環境是超光滑錶麵的重要影響因素之一,必鬚對拋光環境的各箇方麵加以科學管理和維護.
아납미급포광시획득초광활표면적주요방법.목전,상용적아납미급포광방법유화학궤계포광(CMP)、전화학궤계포광(ECMP)、무마료화학궤계포광(AP-CMP)、자류변포광(MRP)등.아납미급포광질량수포광액、포광조건화포광배경등제다방면적영향.포광실험실적포광배경시초광활표면적중요영향인소지일,필수대포광배경적각개방면가이과학관리화유호.
