氢化非晶硅的红外光谱及氢释放的研究
경화비정규적홍외광보급경석방적연구
Infrared Spectrum and Hydrogen Release of Hydrogenated Amorphous Silicon
  • 万方数据
    液晶与显示 액정여현시
    CHINESE JOURNAL OF LIQUID CRYSTALS AND DISPLAYS
    1999年 3期 193-198 ,共6页

    李牧菊%杨柏梁%朱永福%袁剑峰%刘传珍%廖燕平%吴渊

    리목국%양백량%주영복%원검봉%류전진%료연평%오연

    非晶硅%化学气相淀积%红外光谱%金相显微 非晶硅%化學氣相澱積%紅外光譜%金相顯微
    비정규%화학기상정적%홍외광보%금상현미
    用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)制备了氢化非晶硅薄膜(a-Si∶H)并进行了退火实验,利用红外吸收光谱(IR)和金相显微镜研究薄膜中的氢含量及退火前后的脱氢现象,得出材料组成及热稳定性对衬底温度Ts和射频功率Prf的依赖关系.
    용등리자체증강화학기상정적(PECVD)제비료경화비정규박막(a-Si∶H)병진행료퇴화실험,이용홍외흡수광보(IR)화금상현미경연구박막중적경함량급퇴화전후적탈경현상,득출재료조성급열은정성대츤저온도Ts화사빈공솔Prf적의뢰관계.
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