长春大学学报(自然科学版)
長春大學學報(自然科學版)
장춘대학학보(자연과학판)
JOURNAL OF CHANGCHUN UNIVERSITY
2009年
3期
57-59
,共3页
微通道板%二氧化硅%防离子反馈膜
微通道闆%二氧化硅%防離子反饋膜
미통도판%이양화규%방리자반궤막
microchannel plate%SiO2%ion barrier film
利用射频磁控溅射方法,在微通道板输入面上做出了性能满足使用要求的SiO2防离子反馈膜.对防离子反馈膜进行了理论分析,对所制备的SiO2防离子反馈膜进行了电子透过率测试.
利用射頻磁控濺射方法,在微通道闆輸入麵上做齣瞭性能滿足使用要求的SiO2防離子反饋膜.對防離子反饋膜進行瞭理論分析,對所製備的SiO2防離子反饋膜進行瞭電子透過率測試.
이용사빈자공천사방법,재미통도판수입면상주출료성능만족사용요구적SiO2방리자반궤막.대방리자반궤막진행료이론분석,대소제비적SiO2방리자반궤막진행료전자투과솔측시.
In this paper, we use RF magnetron sputtering method and succeed in preparation of SiO2 ion barrier film that meets the re-quirements of application on MCP surface. We analyze the ion barrier film in theory, and the electron transmittance test has been con-ducted on the SiO2 ion barrier film prepared.
