光电子技术
光電子技術
광전자기술
OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY
2003年
3期
194-198
,共5页
热处理%金属-绝缘体-金属薄膜二极管%反应溅射%电子束蒸发%原子力显微镜
熱處理%金屬-絕緣體-金屬薄膜二極管%反應濺射%電子束蒸髮%原子力顯微鏡
열처리%금속-절연체-금속박막이겁관%반응천사%전자속증발%원자력현미경
采用了一种较为新颖的真空热处理和大气气氛下热处理相结合的热处理工艺,并应用到两种以反应溅射工艺为基础制备出的多层Ta2O5膜样品的后处理上.AFM结果显示,经过真空和大气热处理之后,两种Ta2O5膜样品的表面平整度均得到了较大改善,反映出膜内部结构的致密性也得到了较大提高,这将一定程度改善以该膜为绝缘层的MIM-TFD的漏电流和耐击穿电压等电性能.此外,其中的大气热处理工艺所需要的设备和操作程序非常简单,成本较低,这也为MIM-TFD的后期处理工艺提供了一条新的途径.
採用瞭一種較為新穎的真空熱處理和大氣氣氛下熱處理相結閤的熱處理工藝,併應用到兩種以反應濺射工藝為基礎製備齣的多層Ta2O5膜樣品的後處理上.AFM結果顯示,經過真空和大氣熱處理之後,兩種Ta2O5膜樣品的錶麵平整度均得到瞭較大改善,反映齣膜內部結構的緻密性也得到瞭較大提高,這將一定程度改善以該膜為絕緣層的MIM-TFD的漏電流和耐擊穿電壓等電性能.此外,其中的大氣熱處理工藝所需要的設備和操作程序非常簡單,成本較低,這也為MIM-TFD的後期處理工藝提供瞭一條新的途徑.
채용료일충교위신영적진공열처리화대기기분하열처리상결합적열처리공예,병응용도량충이반응천사공예위기출제비출적다층Ta2O5막양품적후처리상.AFM결과현시,경과진공화대기열처리지후,량충Ta2O5막양품적표면평정도균득도료교대개선,반영출막내부결구적치밀성야득도료교대제고,저장일정정도개선이해막위절연층적MIM-TFD적루전류화내격천전압등전성능.차외,기중적대기열처리공예소수요적설비화조작정서비상간단,성본교저,저야위MIM-TFD적후기처리공예제공료일조신적도경.
