人工裁剪制备石墨纳米结构
인공재전제비석묵납미결구
Fabrication of graphite nano-structures
  • 万方数据
    物理学报 물이학보

    2005年 9期 4251-4255 ,共5页

    刘首鹏%周锋%金爱子%杨海方%马拥军%李辉%顾长志%吕力%姜博%郑泉水%王胜%彭练矛

    류수붕%주봉%금애자%양해방%마옹군%리휘%고장지%려력%강박%정천수%왕성%팽련모

    高定向热解石墨%聚焦离子束刻蚀%电子束曝光%反应离子刻蚀 高定嚮熱解石墨%聚焦離子束刻蝕%電子束曝光%反應離子刻蝕
    고정향열해석묵%취초리자속각식%전자속폭광%반응리자각식
    采用不同的方法裁剪高定向热解石墨(HOPG),制备纳米尺寸的石墨条.首先,发现用聚焦离子束(镓离子)刻蚀高定向热解石墨,可以得到边缘整齐程度在几十纳米的石墨条,另外,用电子束曝光和反应离子刻蚀的工艺,可以得到最小尺寸为50 nm的纳米石墨图型 (nano-sized graphite pattern,纳米尺寸的多层石墨结构).采用了三种不同的方案制备反应等离子刻蚀过程中需要的掩膜,分别是PECVD生长的SiO2掩膜,磁控溅射的方法生长的SiO2掩膜和PMMA光刻胶掩膜,并将三种方案的刻蚀结果做了对比.
    채용불동적방법재전고정향열해석묵(HOPG),제비납미척촌적석묵조.수선,발현용취초리자속(가리자)각식고정향열해석묵,가이득도변연정제정도재궤십납미적석묵조,령외,용전자속폭광화반응리자각식적공예,가이득도최소척촌위50 nm적납미석묵도형 (nano-sized graphite pattern,납미척촌적다층석묵결구).채용료삼충불동적방안제비반응등리자각식과정중수요적엄막,분별시PECVD생장적SiO2엄막,자공천사적방법생장적SiO2엄막화PMMA광각효엄막,병장삼충방안적각식결과주료대비.
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