微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2006年
8期
402-404
,共3页
近场扫描光学显微镜%光纤探针%化学腐蚀%激光消融
近場掃描光學顯微鏡%光纖探針%化學腐蝕%激光消融
근장소묘광학현미경%광섬탐침%화학부식%격광소융
介绍了一种用于近场扫描光学显微镜(SNOM)中的高透过率光纤探针的制作方法.采用氢氟酸腐蚀低掺杂的普通单模石英光纤,选取适当比例的腐蚀液,并通过激光消融的方法得到直径、圆锥角均十分理想、表面光滑的针尖,所获探针直径变化范围为80～200 nm,锥度40°～81°,透过率3.5×10-3.
介紹瞭一種用于近場掃描光學顯微鏡(SNOM)中的高透過率光纖探針的製作方法.採用氫氟痠腐蝕低摻雜的普通單模石英光纖,選取適噹比例的腐蝕液,併通過激光消融的方法得到直徑、圓錐角均十分理想、錶麵光滑的針尖,所穫探針直徑變化範圍為80～200 nm,錐度40°～81°,透過率3.5×10-3.
개소료일충용우근장소묘광학현미경(SNOM)중적고투과솔광섬탐침적제작방법.채용경불산부식저참잡적보통단모석영광섬,선취괄당비례적부식액,병통과격광소융적방법득도직경、원추각균십분이상、표면광활적침첨,소획탐침직경변화범위위80～200 nm,추도40°～81°,투과솔3.5×10-3.
