南昌大学学报（工科版）
南昌大學學報（工科版）
남창대학학보（공과판）
JOURNAL OF NANCHANG UNIVERSITY ENGINEERING & TECHNOLOGY EDITION
2007年
1期
19-21
,共3页
PZT铁电薄膜%界面%微观结构
PZT鐵電薄膜%界麵%微觀結構
PZT철전박막%계면%미관결구
利用射频溅射工艺,在低阻硅p-Si(111)基片上分别制备Pb(Zr0.52Ti0.)O3(PZT)和PZT/LaNiO3(LNO)薄膜,样品在大气中进行650℃/15 min后热退火处理.用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)等手段分析不同衬底与PZT薄膜之间的界面对薄膜微观结构和铁电性能的影响,实验结果分析表明,即使溅射工艺相同,在p-Si和LNO/p-Si上外延生长的PZT薄膜结晶取向、晶颗大小和表面平整度存在很大差异,薄膜与底电极间的界面明显地影响PZT薄膜的微观结构和铁电性能.
利用射頻濺射工藝,在低阻硅p-Si(111)基片上分彆製備Pb(Zr0.52Ti0.)O3(PZT)和PZT/LaNiO3(LNO)薄膜,樣品在大氣中進行650℃/15 min後熱退火處理.用X射線衍射儀(XRD)、原子力顯微鏡(AFM)等手段分析不同襯底與PZT薄膜之間的界麵對薄膜微觀結構和鐵電性能的影響,實驗結果分析錶明,即使濺射工藝相同,在p-Si和LNO/p-Si上外延生長的PZT薄膜結晶取嚮、晶顆大小和錶麵平整度存在很大差異,薄膜與底電極間的界麵明顯地影響PZT薄膜的微觀結構和鐵電性能.
이용사빈천사공예,재저조규p-Si(111)기편상분별제비Pb(Zr0.52Ti0.)O3(PZT)화PZT/LaNiO3(LNO)박막,양품재대기중진행650℃/15 min후열퇴화처리.용X사선연사의(XRD)、원자력현미경(AFM)등수단분석불동츤저여PZT박막지간적계면대박막미관결구화철전성능적영향,실험결과분석표명,즉사천사공예상동,재p-Si화LNO/p-Si상외연생장적PZT박막결정취향、정과대소화표면평정도존재흔대차이,박막여저전겁간적계면명현지영향PZT박막적미관결구화철전성능.
