CAJ | 학술논문

研究了磁场作用下电沉积Ni金属膜的生长过程,磁场与电极表面夹角取35°.测试结果表明电流密度、基底织构和磁场对薄膜的织构和表面形貌均具有重要影响.随着电流密度的增加,薄膜的面外织构由(111)为主变为(200)为主,面内织构显著改善;晶粒尺寸随着电流密度的增加显著增大.在电流密度较小时,磁场的作用比较显著,使得面外(111)晶面取向受到抑制,(200)取向得到增强,面内织构也有一定的改善.同时,磁场使晶粒变小,形状更加规则,整体也更均匀.还对磁场、电流和基底的作用机制进行了分析.
연구료자장작용하전침적Ni금속막적생장과정,자장여전겁표면협각취35°.측시결과표명전류밀도、기저직구화자장대박막적직구화표면형모균구유중요영향.수착전류밀도적증가,박막적면외직구유(111)위주변위(200)위주,면내직구현저개선;정립척촌수착전류밀도적증가현저증대.재전류밀도교소시,자장적작용비교현저,사득면외(111)정면취향수도억제,(200)취향득도증강,면내직구야유일정적개선.동시,자장사정립변소,형상경가규칙,정체야경균균.환대자장、전류화기저적작용궤제진행료분석.